ဆီလီကာ (SiO2) သည် တွင် လုံးဝ အရေးကြီးပြီး အခြေခံကျသည့်အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်သည်အီးဖန်၎င်း၏ အစွမ်းထက်သော ဂုဏ်သတ္တိများ အားလုံးအတွက် အခြေခံအုတ်မြစ်အဖြစ် ပုံဖော်ထားသည်။ ရိုးရိုးရှင်းရှင်းပြောရလျှင် ဆီလီကာသည် E-glass ၏ "ကွန်ရက်ဟောင်း" သို့မဟုတ် "အရိုးစု" ဖြစ်သည်။ ၎င်း၏လုပ်ဆောင်ချက်ကို အောက်ပါနယ်ပယ်များအဖြစ် အတိအကျ အမျိုးအစားခွဲနိုင်ပါသည်။
1. Glass Network Structure (Core Function) ဖွဲ့စည်းခြင်း၊
၎င်းသည် ဆီလီကာ၏ အခြေခံအကျဆုံးလုပ်ဆောင်ချက်ဖြစ်သည်။ စီလီကာသည် ဖန်အောက်ဆိုဒ် ကိုယ်တိုင်ဖွဲ့စည်းသည်။ ၎င်း၏ SiO4tetrahedra သည် အောက်ဆီဂျင်အက်တမ်များကို ပေါင်းကူးကာ တစ်ခုနှင့်တစ်ခု ချိတ်ဆက်ထားပြီး၊ စဉ်ဆက်မပြတ်၊ ကြံ့ခိုင်မှုနှင့် ကျပန်းသုံးဖက်မြင်ကွန်ရက်ဖွဲ့စည်းပုံကို ဖွဲ့စည်းထားသည်။
- Analogy-ဒါက ဆောက်လက်စအိမ်ရဲ့ သံမဏိအရိုးစုလိုပါပဲ။ Silica သည် မှန်ဖွဲ့စည်းပုံတစ်ခုလုံးအတွက် ပင်မဘောင်ကို ပံ့ပိုးပေးထားပြီး အခြားအစိတ်အပိုင်းများ (ဥပမာ ကယ်လစီယမ်အောက်ဆိုဒ်၊ အလူမီနီယံအောက်ဆိုဒ်၊ ဘိုရွန်အောက်ဆိုဒ်စသည်ဖြင့်) သည် စွမ်းဆောင်ရည်ကိုချိန်ညှိရန်အတွက် ဤအရိုးစုကို ဖြည့်စွက် သို့မဟုတ် ပြုပြင်မွမ်းမံသည့်ပစ္စည်းများဖြစ်သည်။
- ဒီဆီလီကာအရိုးစုမရှိရင် တည်ငြိမ်တဲ့ဖန်သားဓာတ်ကို ဖွဲ့စည်းလို့မရပါဘူး။
2. Excellent ကလျှပ်စစ်လျှပ်စစ်လျှပ်ကာစွမ်းဆောင်ရည်ကိုပံ့ပိုးပေး
- မြင့်မားသောလျှပ်စစ်ခုခံမှု-ဆီလီကာကိုယ်တိုင်က အိုင်းယွန်းရွေ့လျားနိုင်မှု အလွန်နည်းပြီး ဓာတုနှောင်ကြိုး (Si-O Bond) သည် အလွန်တည်ငြိမ်ပြီး ခိုင်ခံ့သောကြောင့် အိုင်ယွန်ထုတ်ရန် ခက်ခဲစေသည်။ E-glass သည် အလွန်မြင့်မားသော ထုထည် ခုခံနိုင်စွမ်းနှင့် မျက်နှာပြင် ခံနိုင်ရည်အား ပေးစွမ်းနိုင်သော လျှပ်စစ်ဓာတ်အားများ ရွေ့လျားမှုကို အလွန် ကန့်သတ်ထားသည်။
- Low Dielectric Constant နှင့် Low Dielectric Loss-E-glass ၏ dielectric ဂုဏ်သတ္တိများသည် မြင့်မားသောကြိမ်နှုန်းများနှင့် မြင့်မားသောအပူချိန်များတွင် အလွန်တည်ငြိမ်ပါသည်။ ၎င်းမှာ အဓိကအားဖြင့် SiO2 ကွန်ရက်တည်ဆောက်ပုံ၏ အချိုးအစားနှင့် တည်ငြိမ်မှုတို့ကြောင့်၊ ကြိမ်နှုန်းမြင့်လျှပ်စစ်စက်ကွင်းတွင် ပိုလာဇေးရှင်းနှင့် အနည်းငယ်မျှသော စွမ်းအင်ဆုံးရှုံးမှု (အပူအဖြစ်သို့ ပြောင်းလဲခြင်း) ကို ဖြစ်စေသည်။ ၎င်းသည် အီလက်ထရွန်းနစ်ဆားကစ်ဘုတ်များ (PCB) နှင့် ဗို့အားမြင့်လျှပ်ကာများတွင် အားဖြည့်ပစ္စည်းအဖြစ် အသုံးပြုရန်အတွက် စံပြဖြစ်စေသည်။
3. ကောင်းမွန်သော ဓာတုဗေဒ တည်ငြိမ်မှုကို အာမခံသည်။
E-glass သည် ရေ၊ အက်ဆစ်များ (hydrofluoric နှင့် hot phosphoric acid မှလွဲ၍) နှင့် ဓာတုပစ္စည်းများကို ကောင်းစွာခံနိုင်ရည်ရှိကြောင်း ပြသသည်။
- မသန်စွမ်းမျက်နှာပြင်-သိပ်သည်းသော Si-O-Si ကွန်ရက်တွင် ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ လုပ်ဆောင်မှု အလွန်နည်းပြီး ရေ သို့မဟုတ် H+ အိုင်းယွန်းများနှင့် အလွယ်တကူ မတုံ့ပြန်နိုင်ပါ။ ထို့ကြောင့် ၎င်း၏ hydrolysis resistance နှင့် acid resistance သည် အလွန်ကောင်းမွန်ပါသည်။ E-glass ဖိုင်ဘာဖြင့် အားဖြည့်ထားသော ပေါင်းစပ်ပစ္စည်းများသည် ကြမ်းတမ်းသောပတ်ဝန်းကျင်များတွင်ပင် ရေရှည်တွင် ၎င်းတို့၏စွမ်းဆောင်ရည်ကို ထိန်းသိမ်းနိုင်စေရန် သေချာစေသည်။
4. မြင့်မားသောစက်ပိုင်းဆိုင်ရာအားဖြည့်ပံ့ပိုးမှု
ဒါပေမယ့် နောက်ဆုံးတော့ ခိုင်ခန့်တယ်ဖန်မျှင်မျက်နှာပြင် ချို့ယွင်းချက်များနှင့် မိုက်ခရိုအက်ကွဲမှုများကဲ့သို့သော အကြောင်းရင်းများကြောင့်လည်း ၎င်းတို့၏ သီအိုရီဆိုင်ရာ အစွမ်းသတ္တိသည် ခိုင်ခံ့သော Si-O covalent နှောင်ကြိုးများနှင့် သုံးဖက်မြင် ကွန်ရက်တည်ဆောက်ပုံတို့မှ အဓိက သက်ရောက်ပါသည်။
- မြင့်မားသော Bond စွမ်းအင်-Si-O နှောင်ကြိုး၏နှောင်ကြိုးစွမ်းအင်သည် အလွန်မြင့်မားသည်၊ ၎င်းသည် ဖန်အရိုးစုကိုယ်နှိုက်ကို အလွန်ကြံ့ခိုင်စေပြီး ဖိုက်ဘာကို ဆန့်နိုင်အားမြင့်မားပြီး elastic modulus ကိုပေးစွမ်းသည်။
5. စံပြအပူဓာတ်ကို တင်သွင်းခြင်း။
- Low Thermal Expansion Coefficient-စီလီကာကိုယ်တိုင်က အပူချဲ့ထွင်မှု ကိန်းဂဏန်း အလွန်နည်းပါတယ်။ ၎င်းသည် ပင်မအရိုးစုအဖြစ် ဆောင်ရွက်သောကြောင့်၊ E-glass သည် အပူပိုင်းချဲ့ထွင်မှုအတော်လေးနည်းပါးသည်။ ဆိုလိုသည်မှာ ၎င်းသည် အပူချိန်ပြောင်းလဲမှုများအတွင်း ကောင်းမွန်သော အတိုင်းအတာတည်ငြိမ်မှုရှိပြီး အပူချဲ့ထွင်ခြင်းနှင့် ကျုံ့ခြင်းတို့ကြောင့် အလွန်အကျွံဖိစီးမှုကို ထုတ်ပေးနိုင်ခြေနည်းသည်။
- မြင့်မားသော ပျော့ပြောင်းသည့်အချက်-ဆီလီကာ၏ အရည်ပျော်မှတ်သည် အလွန်မြင့်မားသည် (ခန့်မှန်းခြေအားဖြင့် 1723∘C)။ အခြားသော fluxing oxides များ ပေါင်းထည့်ခြင်းသည် E-glass ၏ နောက်ဆုံး အရည်ပျော်မှု အပူချိန်ကို လျော့ကျစေသော်လည်း ၎င်း၏ SiO2 core သည် ဖန်ခွက် အများစု၏ လိုအပ်ချက်များနှင့် ကိုက်ညီရန် လုံလောက်သော ပျော့ပြောင်းသည့် အမှတ်နှင့် အပူတည်ငြိမ်မှု ရှိနေကြောင်း သေချာစေသည်။
ထုံးစံအတိုင်းအီးဖန်စီလီကာပါဝင်မှုသည် အများအားဖြင့် 52%−56% (အလေးချိန်အားဖြင့်) သည် တစ်ခုတည်းသောအကြီးဆုံး အောက်ဆိုဒ်အစိတ်အပိုင်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်းသည် ဖန်၏အခြေခံဂုဏ်သတ္တိများကို သတ်မှတ်သည်။
E-Glass ရှိ Oxides များကြား အလုပ်သမား ခွဲဝေမှု
- SiO2(ဆီလီကာ): အဓိက အရိုးစု; ဖွဲ့စည်းတည်ဆောက်ပုံတည်ငြိမ်မှု၊ လျှပ်စစ်လျှပ်ကာ၊ ဓာတုကြာရှည်ခံမှုနှင့်ခိုင်ခံ့မှုကိုပေးသည်။
- အယ်လ်၂အို၃(အလူမီနာ): Auxiliary network ယခင်နှင့် stabilizer; ဓာတုဗေဒ တည်ငြိမ်မှု၊ စက်ပိုင်းဆိုင်ရာ ခွန်အားကို တိုးမြင့်စေပြီး devitrification သဘောထားကို လျှော့ချပေးသည်။
- B2O3(ဘိုရွန်အောက်ဆိုဒ်): Flux နှင့် ပိုင်ဆိုင်မှု ပြုပြင်မွမ်းမံမှု; အပူနှင့်လျှပ်စစ်ဂုဏ်သတ္တိများကိုတိုးတက်စေပြီး အရည်ပျော်သည့်အပူချိန် (စွမ်းအင်ချွေတာခြင်း) ကို သိသိသာသာလျှော့ချပေးသည်။
- CaO/MgO( Calcium Oxide/ Magnesium Oxide ) ။ Flux နှင့် stabilizer; အရည်ပျော်ရာတွင် အထောက်အကူဖြစ်ပြီး ဓာတုကြာရှည်ခံမှုနှင့် ပျက်ဆီးခြင်းဂုဏ်သတ္တိများကို ချိန်ညှိပေးသည်။
စာတိုက်အချိန်- အောက်တိုဘာ-၁၀-၂၀၂၅
